抛光液中的磨料是起到主要抛光作用的关键成分。

它通常是一些细小的颗粒，如氧化铝、氧化硅等，这些颗粒在抛光过程中，通过摩擦作用，能够去除材料表面的微小凸起和不平整部分，使表面变得光滑。

分散剂的作用则是使磨料在抛光液中均匀分布，防止其发生团聚或沉淀。

表面活性剂则能够降低抛光液与材料表面之间的界面张力，使抛光液更容易渗透到表面的微小缝隙中，提高抛光效果。

氧化剂和缓蚀剂则主要用于控制抛光过程中的化学反应。

氧化剂能够促进材料表面的氧化反应，有助于去除表面的污渍和氧化物;而缓蚀剂则能够保护材料不被过度腐蚀，确保抛光过程不会对材料造成损害。